,单击此处编辑母版标题样式,单击此处编辑母版文本样式,第二级,第三级,第四级,第五级,1/18/2017,#,一、名词解释,二、开关机流程,三、镀膜主控界面说明,真空镀膜设备操作培训,一、名词解释,真空溅射：,在真空中，惰性气体离子从靶表面上轰击出原子（分子）或原子团的过程。,物理气相沉积：,在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。,磁控溅射：,借助于靶表面上形成的正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面特定区域，来增强电离效率，增加离子密度和能量，因而可在低电压，大电流下取得很高溅射速率。,镀膜室：,真空镀膜设备中实施实际镀膜过程的部件。,溅射装置：,包括靶和溅射所必要的辅助装置,(,例如供电装置,气体导入装置等,),在内的真空溅射设备的部件。,靶材：,母材，用来制取膜层的原材料。,挡板：,用来在时间上和,(,或,),空间上限制镀膜并借此能达到一定膜厚分布的装置；挡板可以是固定的也可以是活动的。,基片架：,可直接夹持基片的装置,别称夹具或治具,基片安装方式分平放、立放，立式放置一般通过弹片、夹扣固定基片。,基片：,膜层承受体。,试验基片（工艺片）：,在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。,沉积速率：,在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间和基片表面积。,一、名词解释,加热装置：,在真空镀膜设备中,通过加热能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。,冷却装置：,在真空镀膜设备中,通过冷却能使一个基片或几个基片达到理想温度的装置。,连续镀膜设备：,被镀膜物件（单件或带材）连续地从大气压经过压力梯段进入到一个或数个镀膜室，再经过相应的压力梯段，继续离开设备的连续式镀膜设备。,真空泵：,抽除气体，能使腔体达到设计的真空度。,阴极：,靶材安装位置，兼工艺布气管入口。,阳极：,非阴极区域。,工艺气体：,镀膜所需冲入气体，常用的有氩气、氮气、氧气。,真空度：,低于一个标准大气压。,二、开关机流程,确认设备检修完成、检查箱门擦拭干净，门关闭,OK(,门螺丝用工具使用,5,成力扭紧）,开冷却水、检查主控面板有无异常报警,生产参数确定：,开门压差,15pa;,分子泵启动,10pa,；罗茨泵启动,500pa,泵组电控柜分子泵开关打开，操作面板分子泵设定使能,设定正常自检（“取消自检”显示绿色）,真空模式转抽气模式，需泵组模式切换使能,设备自检后自动抽气，如有问题处理不了，通知设备,正常罗茨泵抽气时间,30,分钟，真空度到达,10pa,，分子泵启动；启动完成，提示转生产模式,泵组切换使能，抽气转换成生产模式；门螺丝用工具使用,5,成力再次扭紧。,检漏,升温,降温,工艺调试（本底真空,5E-3,；布气，,2.5kw,轰靶,0.5H,）,试投,生产,开机,流程,百级间禁止上片,镀膜腔体夹具全部走完后开始停机，传动设为手动模式,生产模式转保压模式；关靶、关气、加热器设为,0,分子泵降速停机，约,20min;,期间可以松开箱体门螺丝，门把手位置留,1,颗螺丝扣住,待所有泵组停止，确认门螺丝松开，保压模式转放气模式,关闭冷却水系统；关闭换靶位置阴极冷却水阀,关闭分子泵空气开关；开始保养作业,关机,流程,三、镀膜主控界面说明,(,总貌画面）,三、镀膜主控界面说明,(,生产参数表）,三、镀膜主控界面说明,(,加热参数表）,三、镀膜主控界面说明,(,工艺参数表）,三、镀膜主控界面说明,(,分子泵分布）,三、镀膜主控界面说明,(,报警记录）,Thank You,报,告,完,毕,